【導(dǎo)讀】11月5日至10日，第八屆中國國際進(jìn)口博覽會在上海國家會展中心成功舉辦。技術(shù)裝備展區(qū)作為全場焦點(diǎn)之一，吸引眾多專業(yè)觀眾駐足交流，現(xiàn)場氣氛熱烈。連續(xù)七年參展的全球光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者ASML，此次以“積納米之微，成大千世界”為主題，在集成電路專區(qū)展示了其前沿的光刻解決方案。

ASML全球執(zhí)行副總裁、中國區(qū)總裁沈波在接受采訪時(shí)強(qiáng)調(diào)：“進(jìn)博會倡導(dǎo)的開放合作理念，與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全球化協(xié)作、共同進(jìn)步的特質(zhì)高度契合。我們希望通過這一平臺，與各界伙伴深入交流，分享行業(yè)洞見，展示ASML在光刻領(lǐng)域的最新成果。”

AI時(shí)代的兩大挑戰(zhàn)：算力需求與能源消耗

隨著人工智能技術(shù)的迅猛發(fā)展，全球半導(dǎo)體行業(yè)正迎來新的變革契機(jī)。沈波指出，AI將成為引領(lǐng)下一波半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大發(fā)展、并推動社會全面數(shù)字化轉(zhuǎn)型的核心驅(qū)動力。根據(jù)麥肯錫預(yù)測，到2030年，AI將為全球GDP貢獻(xiàn)10萬億美元的價(jià)值。

然而，AI的快速發(fā)展也帶來了兩大挑戰(zhàn)。沈波解釋道，一是摩爾定律和AI時(shí)代對算力需求之間的“剪刀差”——半導(dǎo)體行業(yè)長期遵循的摩爾定律顯示晶體管數(shù)量每兩年左右翻一倍，而AI的算力需求幾乎是每兩年以15-16倍的速度增長，這與摩爾定律預(yù)示的線性增長路徑形成鮮明對比。

二是能源消耗問題。研究表明，若僅通過增加模型參數(shù)提升性能，且其他技術(shù)條件不變，為了在200小時(shí)內(nèi)完成一次超大模型訓(xùn)練，其所需的計(jì)算速度將導(dǎo)致功耗大幅度提升。

“鐵三角”全景光刻解決方案應(yīng)對行業(yè)挑戰(zhàn)

面對這些挑戰(zhàn)，延續(xù)摩爾定律仍是關(guān)鍵應(yīng)對之策。沈波介紹，“通過2D微縮持續(xù)縮小晶體管尺寸、提升晶體管密度與能效，以及借助3D集成進(jìn)行堆疊和封裝，突破平面極限，是芯片行業(yè)在技術(shù)領(lǐng)域?qū)で髣?chuàng)新突破的兩大核心路線?！?/p>

ASML通過“鐵三角”全景光刻解決方案——光刻機(jī)、計(jì)算光刻、量測與檢測的協(xié)同，幫助客戶以更低能耗和成本實(shí)現(xiàn)更高良率，提升芯片性能與能效。

在本次進(jìn)博會現(xiàn)場，ASML以數(shù)字化方式展示了全景光刻解決方案下的多款產(chǎn)品和技術(shù)。沈波詳細(xì)介紹道：“光刻機(jī)幫助客戶制造芯片，計(jì)算光刻創(chuàng)建光刻工藝的精確仿真模型以提高良率和產(chǎn)能，量測與檢測設(shè)備用于曝光后晶圓成像檢查和反饋，及時(shí)糾錯(cuò)/調(diào)整光刻工藝實(shí)時(shí)提升良率。”

ASML展示的DUV光刻機(jī)具備多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)。其中TWINSCAN XT:260是ASML的首款可服務(wù)于先進(jìn)封裝領(lǐng)域的光刻機(jī)，該設(shè)備通過光學(xué)系統(tǒng)的創(chuàng)新具有大視場曝光，相較于現(xiàn)有機(jī)型可提升4倍生產(chǎn)效率。沈波補(bǔ)充說：“這款設(shè)備在今年第三季度已正式發(fā)運(yùn)?！?/p>

另一款DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:870B在升級的光學(xué)器件和最新一代磁懸浮平臺的支持下，可實(shí)現(xiàn)每小時(shí)晶圓產(chǎn)量400片以上，并為鍵合后的套刻和階梯式工藝提供強(qiáng)大的校正能力。

值得一提的是，ASML的DUV光刻機(jī)創(chuàng)新性地引入了鉆石涂層，能夠有效減少設(shè)備磨損，延長使用壽命，降低更換需求與維護(hù)成本。

深耕中國市場三十余載，團(tuán)隊(duì)持續(xù)壯大

自1988年向中國交付首臺步進(jìn)式光刻機(jī)起，ASML在華征程已逾三十載。沈波表示，ASML參與并見證了中國半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展歷程，在合法合規(guī)前提下始終為中國客戶提供堅(jiān)實(shí)支持。

如今，中國已成為ASML最重要的市場之一。ASML在中國17個(gè)城市設(shè)有辦事處、還有15個(gè)倉儲物流中心、3個(gè)開發(fā)中心、1個(gè)培訓(xùn)中心以及1個(gè)維修中心，形成了集開發(fā)、支持、服務(wù)與人才培養(yǎng)于一體的綜合體系。

ASML在中國的團(tuán)隊(duì)也在持續(xù)壯大。沈波介紹：“目前ASML中國區(qū)員工人數(shù)已經(jīng)突破2000人，相比去年的1800人實(shí)現(xiàn)了約10%的穩(wěn)健增長。我們在中國的計(jì)算光刻和電子束量測開發(fā)團(tuán)隊(duì)超過400人，今年新增的200名員工中客戶服務(wù)工程師占據(jù)很大比重?！?br/>

在業(yè)務(wù)發(fā)展的同時(shí)，ASML也積極踐行企業(yè)社會責(zé)任。沈波分享道：“團(tuán)隊(duì)在全國各地開展ESG活動，包括慈善活動、科技類活動等，例如我們的西安團(tuán)隊(duì)每年都會定期前往當(dāng)?shù)剜l(xiāng)鎮(zhèn)小學(xué)，為留守兒童組織活動，給予他們陪伴與關(guān)懷?！?br/>

行業(yè)前景樂觀，穩(wěn)健增長可期

在采訪的最后，沈波分享了對ASML業(yè)績以及行業(yè)發(fā)展的看法：“根據(jù)公司最新第三季度財(cái)報(bào)，ASML預(yù)期2025年全年銷售額將實(shí)現(xiàn)15%的同比增長。當(dāng)前，半導(dǎo)體行業(yè)整體仍處于調(diào)整階段，并正逐步進(jìn)入上行周期，全年15%的幅度是一個(gè)比較穩(wěn)健的增長。”

中長期來看，公司持續(xù)看好行業(yè)發(fā)展。沈波表示，ASML基本維持對2030年?duì)I業(yè)額達(dá)到440億至600億歐元的預(yù)期，“整體而言，我們對行業(yè)前景保持樂觀態(tài)度?！?br/>

隨著人工智能時(shí)代的全面到來，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正站在新的歷史起點(diǎn)。ASML通過其全景光刻解決方案，正積極助力全球半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)對算力與能效挑戰(zhàn)，推動技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級。