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更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊

發(fā)布時間:2024-09-25 責任編輯:lina

【導讀】本文介紹了為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計的第8代1800A/1200V IGBT功率模塊,該功率模塊采用了先進的第8代IGBT和二極管。與傳統(tǒng)功率模塊相比,該模塊采用了分段式柵極溝槽(SDA)結(jié)構(gòu),并通過可以控制載流子的等離子體層(CPL)結(jié)構(gòu)減少芯片厚度,從而顯著的降低了功率損耗。特別是,在開通dv/dt與傳統(tǒng)模塊相同的情況下,SDA結(jié)構(gòu)可將Eon降低約60%,通過大幅降低功率損耗,模塊可以提高功率密度。通過采用這些技術(shù)并擴大芯片面積,第8代1200V IGBT功率模塊在相同的三菱電機LV100封裝中實現(xiàn)了1800A的額定電流,是傳統(tǒng)1200V IGBT功率模塊的1.5倍。


1 三菱電機功率器件制作所, 日本
2 三菱電機歐洲公司, 德國

摘要

本文介紹了為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計的第8代1800A/1200V IGBT功率模塊,該功率模塊采用了先進的第8代IGBT和二極管。與傳統(tǒng)功率模塊相比,該模塊采用了分段式柵極溝槽(SDA)結(jié)構(gòu),并通過可以控制載流子的等離子體層(CPL)結(jié)構(gòu)減少芯片厚度,從而顯著的降低了功率損耗。特別是,在開通dv/dt與傳統(tǒng)模塊相同的情況下,SDA結(jié)構(gòu)可將Eon降低約60%,通過大幅降低功率損耗,模塊可以提高功率密度。通過采用這些技術(shù)并擴大芯片面積,第8代1200V IGBT功率模塊在相同的三菱電機LV100封裝中實現(xiàn)了1800A的額定電流,是傳統(tǒng)1200V IGBT功率模塊的1.5倍。

1.引言

近年來,作為應(yīng)對全球變暖的對策,光伏和儲能等可再生能源市場正在穩(wěn)步增長,在這些市場中,作為功率轉(zhuǎn)換系統(tǒng)核心的功率半導體器件的需求正在大幅增長。特別是1200V級別的IGBT功率模塊被廣泛集成到系統(tǒng)中,需要輸出功率更高的IGBT模塊來提高系統(tǒng)性能并降低系統(tǒng)成本。工程師們正在有限的空間內(nèi)設(shè)計具有高功率能力的系統(tǒng),因此,要求 IGBT 模塊在保持傳統(tǒng)封裝尺寸的同時提高輸出功率。有兩種方法可以提高輸出功率,第一種是提高輸出電壓,第二種是增加輸出電流。選擇提高輸出電壓需要用戶進行大量的重新設(shè)計,因為IGBT模塊周圍的許多器件也需要提高其額定電壓。另一方面,與提高電壓相比,選擇增加電流的方法在提高輸出功率的同時,用戶的設(shè)計更改較少。提高IGBT模塊的功率密度對于提高傳統(tǒng)1200V級IGBT功率模塊的輸出電流具有重要意義,而“降低損耗”和“增加散熱”是提高功率密度較為可取的方法。

圖1顯示了采用額定1200A/1200V LV100封裝的第7代IGBT產(chǎn)品,在A-NPC三電平拓撲條件下計算得到的穩(wěn)態(tài)和開關(guān)損耗的歸一化比率??梢宰⒁獾?,IGBT和二極管的穩(wěn)態(tài)功率損耗在外管、內(nèi)管、中性點鉗位管的總損耗中都占有較高比率。同時還可以發(fā)現(xiàn),外管的開通損耗較大,因此,降低IGBT穩(wěn)態(tài)損耗、開通損耗以及二極管穩(wěn)態(tài)損耗對于降低總功率損耗非常有效。第8代芯片為降低上述功率損耗進行了優(yōu)化,此外,擴大芯片面積是增加散熱的一種可行方法,第8代芯片通過擴大芯片面積,改善了穩(wěn)態(tài)特性和散熱能力。

LV100封裝是一種工業(yè)級封裝,采用疊層電極結(jié)構(gòu)[2],具有較低的Ls(封裝內(nèi)部寄生電感)。此外,LV100可以為內(nèi)部芯片提供出色的電流平衡,并且可以并聯(lián)使用,因此近年來已被用于多種用途。



更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊



更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊



2.第8代芯片技術(shù)

第8代芯片主要采用分段式柵極溝槽(SDA)結(jié)構(gòu)和控制載流子等離子體層(CPL)結(jié)構(gòu),本節(jié)將對這些技術(shù)進行說明。

IGBT模塊的高速開關(guān)操作可以降低開通損耗,然而,高速開關(guān)操作會帶來較高的開通dv/dt。眾所周知,它是一種電磁干擾(EMI)輻射噪聲源,會對用戶的電動機絕緣產(chǎn)生應(yīng)力,所以應(yīng)通過增加柵極電阻(RG)來將開通dv/dt限制在一定值以下,然而較大的RG會降低IGBT模塊的開關(guān)速度,并導致較高的開通損耗。因此,有必要在不增加RG的情況下降低開通dv/dt。圖3和圖4顯示了第7代和第8代載流子存儲式溝槽柵雙極晶體管(CSTBTTM)的截面示意圖[3],在第7代CSTBTTM中,與柵極相連的有效溝槽和與發(fā)射極相連的無效溝槽交替放置。而在第8代CSTBTTM中,無效溝槽被SDA溝槽取代,在這一配置中,溝槽內(nèi)部的電極分為兩段,SDA溝槽的上電極連接到發(fā)射極,而下電極連接到柵極。此外,CPL被應(yīng)用于第8代CSTBTTM的背面緩沖層。圖5-(a)和(b)顯示了第7代和SDA結(jié)構(gòu)的芯片特性,顯示了發(fā)射極電流(IE)與開通dv/dt的關(guān)系,圖5-(a)中的橫軸表示額定IE低于100%的區(qū)域,圖5-(b)中的橫軸表示額定IE低于2%的區(qū)域。SDA結(jié)構(gòu)在不增加柵極-發(fā)射極電容(CGE)的情況下增加了柵極-集電極電容(CGC),如圖5-(a)和(b)所示,增加CGC可以降低小電流下的開通dv/dt,而不會影響大電流下的開通dv/dt[4]。SDA結(jié)構(gòu)的這一效應(yīng)很重要,因為在小電流下開通dv/dt通常是最高的。


更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊



更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊



更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊



更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
穩(wěn)態(tài)和開關(guān)損耗通??梢酝ㄟ^減小芯片厚度來降低,優(yōu)化芯片厚度時應(yīng)考慮擊穿電壓。在有高di/dt的關(guān)斷操作時,會產(chǎn)生關(guān)斷浪涌電壓,如果這個關(guān)斷浪涌電壓超過IGBT的擊穿電壓,IGBT模塊將會損壞。因此,為了減小IGBT厚度并實現(xiàn)高di/dt下的關(guān)斷操作,抑制關(guān)斷浪涌電壓非常重要。

第8代IGBT調(diào)整了背面緩沖層的設(shè)計[5],CPL結(jié)構(gòu)提供了關(guān)斷時的柔和度。帶CPL和不帶CPL的IGBT關(guān)斷波形如圖6所示,不帶CPL的IGBT顯示出高而尖的關(guān)斷浪涌電壓,浪涌電壓峰值超過了1200V的額定電壓。反觀,帶CPL的IGBT可抑制關(guān)斷浪涌電壓和振蕩,浪涌電壓峰值保持在1200V的額定阻斷電壓以下,它們在相同條件下進行比較,因為浪涌電壓和振蕩的發(fā)生程度通常受到外部電感(Ls)和運行條件等因素的影響。這兩種芯片都與第8代IGBT的厚度相同,僅通過改變背面緩沖層的設(shè)計來進行比較。因此,帶有CPL的第8代IGBT能夠在較高di/dt條件下關(guān)斷運行,并減小了芯片厚度,所以第8代IGBT可以降低功率損耗。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
第8代芯片采用了SDA柵極結(jié)構(gòu)和CPL結(jié)構(gòu)等技術(shù)來提高功率密度。

3.第8代IGBT模塊的評估結(jié)果

本節(jié)對LV100封裝中配備第2節(jié)所述第8代芯片的第8代額定1800A/1200V的IGBT模塊和配備第7代芯片的傳統(tǒng)模塊CM1200DW-24T(1200A/1200V額定)進行了評估。

圖7展示了芯片面積和結(jié)殼熱阻(Rth(j-c))的歸一化比較,第8代1200V等級芯片組的芯片面積針對LV100封裝中的芯片安裝區(qū)域進行了優(yōu)化。第8代IGBT采用的芯片面積比第7代IGBT面積大39%,從而降低了Rth(j-c),擴大IGBT面積還可以降低IGBT的穩(wěn)態(tài)損耗。

第8代二極管優(yōu)化了芯片厚度,調(diào)整了損耗折衷曲線,以發(fā)揮第8代IGBT的性能。此外,該二極管通過采用比第7代二極管面積大18%的芯片面積來減少Rth(j-c),擴大的二極管面積還可以降低二極管的穩(wěn)態(tài)損耗,而且,第8代IGBT模塊通過優(yōu)化封裝內(nèi)部的設(shè)計,擴大了芯片安裝的可用面積。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
圖8-(a)和(b)顯示了在上述條件下評估開通dv/dt與IE的關(guān)系,圖8-(a)中的橫軸表示額定IE低于100%的區(qū)域,圖8-(b)中的橫軸表示額定IE低于2%的區(qū)域。與芯片特性類似,第8代模塊和傳統(tǒng)模塊在小電流下的開通dv/dt都高于大電流下的開通dv/dt,特別是在額定IE低于0.5%的區(qū)域,傳統(tǒng)模塊的開通dv/dt明顯更高。相比之下,第8代模塊在低于額定IE的所有區(qū)域的開通dv/dt都比傳統(tǒng)模塊低,尤其是通過應(yīng)用SDA結(jié)構(gòu),第8代模塊在低于額定IE 0.5%的小電流下的開通dv/dt得到了有效降低,并且通過擴大芯片面積和折衷曲線,也降低了大電流區(qū)域的開通dv/dt。

圖9顯示了第8代模塊和傳統(tǒng)模塊在最大開通dv/dt時的發(fā)射極-集電極電壓(VEC)波形(如圖8-(b)所示,傳統(tǒng)模塊的條件為IE=0%,第8代模塊的條件為IE=0.1%),這些波形也證實了第8代模塊的dv/dt低于傳統(tǒng)模塊的dv/dt。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
圖10顯示了開通dv/dt與IE的關(guān)系,第8代的開通dv/dt匹配為20kV/μs,這是傳統(tǒng)模塊的最大值。第8代模塊調(diào)整了RG去匹配傳統(tǒng)模塊的開通dv/dt,由于第8代模塊具有較低的開通dv/dt,所以可以使用比傳統(tǒng)模塊更小的RG。減小的RG為第8代模塊提供了高速開關(guān)操作的可行性,并且可以降低每個脈沖的開通開關(guān)能量(Eon)。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
圖11顯示了第8代模塊和傳統(tǒng)IGBT模塊的Eon與開通dv/dt之間的關(guān)系,與傳統(tǒng)模塊相比,第8代模塊在開通dv/dt=20kV/μs條件下Eon降低了約60%。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
4.第8代IGBT模塊的電氣參數(shù)和輸出功率

圖12顯示了傳統(tǒng)CM1200DW-24T(額定值1200A/1200V)和第8代額定值1800A/1200V的LV100封裝IGBT功率模塊的電氣參數(shù),傳統(tǒng)模塊使用可用的最小RG值,此時的開通dv/dt為20kV/μs。第8代模塊的RG已調(diào)整為與傳統(tǒng)模塊的開通dv/dt相匹配,兩者的損耗比較結(jié)果如下所述。

(a). VCEsat

通過擴大芯片面積和減小芯片厚度可降低VCEsat。

(b). VEC

通過擴大芯片面積、優(yōu)化芯片厚度和折衷曲線,可降低VEC。

(c). Eon

通過采用SDA結(jié)構(gòu)和減小芯片厚度,可減少Eon。

(d). Eoff

擴大芯片面積會增加Eoff,而減小芯片厚度則可降低Eoff,因此,Eoff調(diào)整為與傳統(tǒng)模塊相似的損耗曲線。

(e). Err

擴大芯片面積和折衷曲線,Err會增加。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
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更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
圖13顯示了IGBT模塊的載波頻率(fC)和輸出電流(IOUT)之間的關(guān)系,橫軸表示載波頻率(fC),縱軸表示輸出電流(IOUT)。這是通過圖12中的電氣參數(shù)計算得出的。結(jié)果表明,與傳統(tǒng)模塊相比,第8代IGBT模塊的輸出功率可以提高約25%,通過優(yōu)化冷卻條件和其他因素,還可以進一步提高IOUT。

更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊
5.結(jié)論

第8代1200V電壓等級LV100封裝的IGBT功率模塊,具有更高的額定電流,專為工業(yè)應(yīng)用而設(shè)計。通過采用SDA柵極結(jié)構(gòu)和CPL結(jié)構(gòu),第8代IGBT模塊展現(xiàn)出卓越的功率損耗,特別是與具有相同開通dv/dt的傳統(tǒng)模塊相比,IGBT的SDA柵極結(jié)構(gòu)使得EON降低了約60%。此外,擴大了第8代芯片的面積,以增強散熱并降低穩(wěn)態(tài)損耗,通過降低損耗,模塊提高了功率密度。因此,第8代1200V IGBT模塊采用與傳統(tǒng)LV100相同的封裝下,實現(xiàn)了1800A的額定電流,如圖14所示。



更高額定電流的第8代LV100 IGBT模塊


6.參考文獻

[1] “7th Generation T-series Industrial LV100-type Application Note”, Mitsubishi Electric Power module application note, March 2023, https://www.mitsubishielectric.co.jp/semiconductors/powerdevices/applica... rial_lv100_e.pdf
[2] M. Miyazawa, M. Tabata, H. Muraoka, T. Hieda, T. Radke, “7th Generation IGBT Module for Industrial Apprications” PCIM 2014.
[3] H. Takahashi et al. “Carrier Stored Trench-Gate Bipolar Transistor (CSTBT) -A Novel Power Device for High Voltage Application-”, ISPSD 1996.
[4] K. Konishi, K. Nishi, K. Sako, A. Furukawa, “Split-Dummy-Active CSTBTTM for Improving Recovery dV/dt and Turn-on Switching Loss Tradeoff” ISPSD 2022.
[5] K. Suzuki, K. Nishi, M. Kaneda, A. Furukawa, “N-buffer design optimization for Short Circuit SOA ruggedness in 1200V class IGBT” ISPSD 2018.
[6] K. Konishi, R. Kamibaba, M. Umeyama, A. Narazaki, T. Takahashi, A. Furukawa and M. Tarutani, “Experimental Demonstration of the Active Trench Layout Tuned 1200V CSTBTTM for Lower dV/dt Surge and Turn-on Switching Loss”, Proc. ISPSD 2016.
[7] S. Machida, T. Sugiyama, M. Ishiko, S. Yasuda, J. Satio and K. Hamada, “Investication of Correlation between Device Structures and Switching Losses of IGBTs”, Proc. ISPSD 2009.
[8] S. Machida, K. Ito, and Y. Yamashita, “Approaching the Limit of Switching Loss Reduction in Si-IGBTs”, Proc. ISPSD 2014.

關(guān)于三菱電機

三菱電機創(chuàng)立于1921年,是全球知名的綜合性企業(yè)。截止2024年3月31日的財年,集團營收52579億日元(約合美元348億)。作為一家技術(shù)主導型企業(yè),三菱電機擁有多項專利技術(shù),并憑借強大的技術(shù)實力和良好的企業(yè)信譽在全球的電力設(shè)備、通信設(shè)備、工業(yè)自動化、電子元器件、家電等市場占據(jù)重要地位。尤其在電子元器件市場,三菱電機從事開發(fā)和生產(chǎn)半導體已有68年。其半導體產(chǎn)品更是在變頻家電、軌道牽引、工業(yè)與新能源、電動汽車、模擬/數(shù)字通訊以及有線/無線通訊等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。

發(fā)言人:Daichi Otori, Otori.Daichi@ap.MitsubishiElectric.co.jp
通訊作者:Daichi Otori, Otori.Daichi@ap.MitsubishiElectric.co.jp

(作者:Daichi Otori1, Masaomi Miyazawa1, Stumpf Eugen2, Koichi Masuda2)


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